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【076】不就是光刻机吗?我造个3纳米的

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东来越来越欣赏李培这个人的品质。

“十五年……”

“人一辈子有多少个十五年。”

李培望向窗外渐渐升起的太阳,神色迷离的开口道:“其实我早就做好了一辈子奉献在芯片和光刻机领域。”

“直到枯叶凋零。”

赵东来被李培深深的感动了。

他站在李培的身旁,重重地拍了拍李培的肩膀:“放心吧!”

“一定会的!”

“在不久的将来,我们一定能造出自己的光刻机!”

李培的学生们也是豪言壮志。

“我们会一直跟随李老师!直到造出属于华夏的光刻机!”

大家热泪盈眶。

十五天后。

林越的3纳米光刻机正式竣工!

这十五天,林越几乎吃饭都很少。

每天睡觉大概也就三个小时左右。

各种机器设备都是临时赶制出来的。

终于!

成功了!

其中光刻机的光学系统最为头疼。

华夏对于透镜的研发落后太多。

而光刻机的关键部位,就是光学系统。

曝光光源、透镜、反射镜等,全都是林越从零开始锻造和开发。

好在功夫不负有心人,林越研发出了目前蓝星规格最高的透镜、反射镜!

另外,运动控制系统和自动对位系统也进行了升级和打磨。

使自动对位系统精确到了埃米级别!

埃米,是比纳米还要小的单位。

也就是说,只要其它工艺成熟,以后甚至可以打造出埃米级的芯片。

但是,现在的工艺距离那个时候还有些遥远。

3纳米级光刻机,已经是林越能够打造出来的目前最先进的光刻机。

林越事先准备了一块儿堆叠了三层的封装晶圆。

放在了光刻机上。

随后运行光刻机程序。

大概运行了半个小时的时间。

终于!

一枚被雕刻而出的芯片,呈现了出来。

当然,这枚芯片并没有做什么特别的架构。

将现成的架构输入到控制电脑中。

当芯片被制作出来后,林越仔细端详了一番,并且在程序上跑了一遍。

完美无瑕!

雕刻工艺没有任何瑕疵。

精准度可以达到百分之

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